12 月 13 日消息，尼康本月 11 日宣布该企业正在加速推进新一代半导体工艺设备锐布 Litho Booster 1000 对准站的开发工作，计划于 2026 年下半年正式上市。

锐布 Litho Booster 1000 能够在曝光工艺前对晶圆进行高精度测量，并将补正值前馈给光刻机，从而大幅提升套刻精度。其相较上代对准站实现了更高精度的多点及绝对值测量。

先进制程半导体的 3D 立体化是大势所趋。在利用多台光刻机进行多层结构曝光的制造工艺中，尤其是在晶圆对晶圆 (WoW) 键合环节，晶圆极易发生形变或位移现象。而可兼容不同厂商光刻机的 Litho Booster 1000 能进一步提升这一过程的良率。

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